How math can help optimize complex machines @ASML
By Paul Donkers
ASML lithography systems are used to produce microchips with nanometer accuracy. This is only possible because of the large number of the intricate math-based software solutions that are used to optimize the performance of these complex machines. This lecture will give a glimpse into mathematical problems that arise when trying to squeeze every last nanometer out of ASML's lithography systems.
Note: after subscribing, showing up is mandatory! There are 135 spots only with first come first serve, priority will be given to students that sign up with their GEWIS account.
Neem contact op met Corporate Communication and Contact Committee of het bestuur (ceb@gewis.nl) als je vragen of opmerkingen hebt of als je na het verstrijken van de afmeldtermijn niet aanwezig kunt zijn. Veel plezier!
Deze inschrijflijst heeft een beperkte capaciteit en is open van vrijdag 17 april 2026 om 12:00 tot maandag 1 juni 2026 om 23:59.